3カ月で2ナノ試作に成功！ラピダスが半導体大国復活へ「TSMC超え」を狙う超加速態勢に突入

最先端半導体の国産化を目指すラピダスが量産に向けて急速に歩みを進めていると、『日本経済新聞』が22日に報じた。

同社は工場稼働からわずか3カ月で2ナノメートル（nm）級半導体の試作品を公開し、かつて半導体大国と呼ばれた日本の復権に向けた強い意志を示している。

ラピダスの小池淳義社長は今月10日、試作品の動作確認を終えた後、「記念すべき日だ」と述べ、感慨をあらわにした。

通常、試作品の製造には半年以上かかるとされるが、それを大幅に短縮したことで、ラピダスの高い技術力が改めて証明されたとの評価が出ている。

同社が急ピッチで開発を進める背景には、開発の遅れが海外の競合他社との技術格差をさらに拡大させ、顧客確保や資金調達に悪影響を及ぼすとの危機感がある。

2ナノ半導体の製造工程は2,000を超える複雑なプロセスで構成されており、ラピダスは2027年の量産開始を目指して歩留まり向上に向けた取り組みを継続する方針。

短期間で試作品を実現できた要因として、主に以下の3点が挙げられている。

第一に、工場稼働前の段階で米IBMや国内装置メーカーと連携し、一部の工程で条件出荷を完了していたこと。

第二に、ウエハーを高速処理する「完全葉式」製造ラインを構築し、ウエハー処理速度をTSMC比で2〜3倍に高めたこと。

第三に、デジタル技術を活用したデータ解析によってウエハーの厚さや寸法、製造装置の信号を補正する「ディープラーニング・オートメーション部」を運用している点。

1980年代、世界の半導体売上高で首位に立っていた日本は、ラピダスを通じて再びその地位を取り戻す決意を固めている。

同社の高橋久・生産技術部長は「開発した製品を実際に量産へとつなげる技術力において、日本は世界一だ」と自信を示した。

工場稼働に先立ち、オランダの半導体製造装置大手ASMLは、通常半年を要する極端紫外線（EUV）露光装置の設置を4カ月で完了させ、ラピダスとの緊密な協力関係を印象づけた。

工場を視察したオランダ政府関係者は「まるでフィクションのようだ」と驚きを語った。

2ナノ半導体の量産に取り組むのは、台湾のTSMCなど一部企業に限られており、日本勢は2000年代以降、台湾や韓国との競争で後れを取り、最先端量産分野から事実上撤退していた。

市場調査会社トレンドフォースによれば、TSMCは2025年第1四半期の半導体受託製造市場で67.6％のシェアを占め、圧倒的な首位を維持している。

ラピダスの進展は、国内の装置・素材メーカーにも新たな商機をもたらすとみられている。

大日本印刷は2ナノ回路をウエハーに転写する「フォトマスク」の開発を進めており、2027年にはラピダスへの供給を予定している。

同社が18日に公開した工場映像では、ASMLの露光装置に加えて、東京エレクトロンやキヤノンなど国内メーカーの装置も確認された。

東京エレクトロンは2024年11月、北海道千歳市に装置設置および保守拠点を新設し、エンジニアの増員を進めている。

日本の半導体産業の復活には、ラピダスの量産技術確立と、産業全体との連携が不可欠とされる。

日本は装置・素材分野では依然として高いシェアを維持している一方、海外競合の追い上げも激しさを増している。

ラピダスが最先端製品の量産を実現することで、日本産業全体の競争力強化につながるかどうかが注目されていると、日経は伝えている。