AI半導体必須の「極端紫外線(EUV)露光装置」
日本導入が相次ぐ
日本で最先端の半導体量産に必須な極端紫外線(EUV)露光装置の導入が相次いでいる。1台300億円を超える高価な装置だが、昨年3台が設置された。最先端半導体開発から撤退していた日本は「EUV不毛地帯」だったが、政府の支援により産業復活のための基盤が整い始めたとの評価だ。
17日の日本経済新聞によると、世界で唯一EUVを扱うオランダASMLが最近発表した昨年の決算で、露光装置の日本への輸出増加率が注目された。約12億ドル（約1,833億円）で前年対比40%急増した。増加率では台湾と韓国を抑えて1位だった。
これを牽引したのはEUVだ。日本の「半導体連合軍」ラピダスは2024年12月にEUV装置の搬入を開始し、翌年3月に設置を完了した。ラピダス関係者は「昨年末までに2台目のEUV装置の導入も終えた」と明らかにした。
北海道千歳工場で日本初の2nm（ナノメートル・1nm=10億分の1m）最先端半導体を生産するために必要だからだ。ラピダスはさらに1.4nm製品を量産するために隣接地に2工場を2027年着工予定で、より多くのEUV装置が必要になる見込みだ。
アメリカのマイクロンも昨年5月に広島工場にEUV装置を導入した。人工知能(AI)用メモリの生産を開始した。同社は5月に新工場を着工し、AI用メモリの増産方針を立てており、ここでもEUV装置を追加で使用する予定だ。
EUVは半導体ウェハに微細な回路を描くために使用される。装置全体の重さは約70トン、高さは3mを超える。特殊な光源やレンズなど複数の部品を組み合わせて「世界で最も複雑な機械」とも呼ばれる。韓国サムスン電子の会長も2020年にヨーロッパ出張中にこの装置を安定的に確保するために直接ASMLを訪れたこともある。
ASMLは2010年に初のEUV試作機を出荷した。量産段階に入った2020年以降、2025年までに台湾、韓国、米国を中心に累計258台を販売した。しかし日本では2024年までにキオクシアが試作機を導入したのが全てだった。
状況が変わったのは半導体が日本の経済安全保障上重要物資に指定されたからだ。経済産業省は2021年6月に半導体・デジタル産業戦略を公表した。この戦略に基づき2022年に設立されたラピダスを支援し、台湾TSMC工場誘致に乗り出した。
TSMCは熊本で2024年末に稼働する1工場に続き、2027年に2工場を稼働させる計画だ。当初6nm製品を生産する予定だったが、最近3nmに変更した。6nmに比べ3nmはさらに微細な回路を描くため、必要なEUV装置も増えると見られる。
日本経済新聞は「日本にEUVが増えただけで満足してはならない」とし、「EUVを活用した開発・量産を軌道に乗せるには、最先端半導体を巧みに活用する企業を国内で育成するなどの努力が必須だ」と指摘した。
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